研磨液通常由表面活性劑、PH調節劑、分散劑、螯合劑等組分組成，各組發揮不同的作用。通過化學原理對工件表面進行化學腐蝕，然后在研磨液中高速運動的磨料對工件表面的磨削及擠壓等綜合作用下，實現對工件表面的拋磨加工。CMP化學拋光液具體作用可以歸納為5點，吉致電子小編給您介紹一下吉致CMP研磨液的作用。
吉致電子http://www.jzdz-wx.com/研磨液被攪拌均勻后，少量滴入研磨盤內部，在研磨拋光過程時拋光液會粘附在工件與合成磨盤的表面，其作用如下：
①研磨液具有軟化作用：即對金屬表面氧化膜的化學作用，使其軟化，易于從表面研磨除去，以提高研磨效率。
②研磨液具有防銹作用：研磨加工后的工件，未清洗前具有短時防銹作用。
③研磨液具有緩沖作用：在高速拋磨運轉中，與水一起攪動，會緩解工件之間的相互撞擊。
④研磨液具有潤滑作用：象潤滑油一樣，在研磨塊和金屬工件之間起潤滑作用，從而得到光潔的表面。
⑤研磨液具有洗滌作用：像洗滌劑一樣，能除去金屬無件表面的油污。
吉致電子研磨液產品如：金剛石研磨液適用于玻璃、陶瓷、硬質合金、天然鉆石、寶石等高硬度材料制成的量具、刃具、光學儀器和其他高光潔度工件的加工。
具體的CMP拋光液磨料配方和研磨液產品還需要結合拋光工件的材質、形狀、規格和拋磨參數要求做相應方案。
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